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所属类别: 超声波清洗机
产品名称: 兆声波清洗机1000KHZ
产品编号: 55709
发布日期: 2020-09-23
简要说明: 产品详细
   1000KHZ,800KHZ,600KHZ,400KHZ,200KHZ, 半导体清洗机,
表面颗粒的去除可以调整化学试剂的配方成分,使得衬底表面存在zui少量的颗粒。化学配比系统设计了zui小的化学试剂的消耗,它提供了程序化的混合方式使化学试剂在衬底表面完全均匀的分布。这个设计也提供了精确的化学工艺时间的控制,控制超声波去离子水的流量,然后衬底在热氮氛围里旋干。

    根据用户的应用需要,某些特定选项将有助于设备去除不想要的颗粒和杂质。

具体应用

清洗功能:

• 晶圆片

• 蓝宝石外延片

• 晶圆框架上的芯片

• 显示面板

• ITO膜显示材料

• 有图形掩膜和无图形掩膜

• 掩膜坯料

• 薄膜式掩膜

• 接触式掩膜

光刻处理工艺:

• SPM剥离

• 光刻胶涂膜

• 光刻胶剥离工艺

刻蚀:

• 金属刻蚀(铝,铜,铬,钛)

白骨化清洗:

• 在晶圆片上注射硫酸和双氧水的混合液

• 红外加热

• 刷洗

• 兆声双氧水清洗

• 热氮和甩干

产品特点:

• 针对21英寸外径或15x15英寸的基底

• 巨声环境清洗舱(可配备去离子水, 清洗刷, 热去离子水, 高压去离子水, 热氮气)

• 化学注射臂

• 带化学喷射的可变速清洗刷

• 触屏用户界面

• 手动上下载

• 安全锁和报警器

• 占地尺寸30”D x 26”W 

可选配项:

• 化学试剂传送单元

• 白骨化清洗

• 臭氧发生器

• 氢化双氧水发生器

• 高压双氧单元

• 硫酸氢过氧化物

• 红外加热

• 双氧水循环装置

• 机械手上下载单元

• 带EFEM和SMIF界面的 集群系统

 

去胶/剥离工艺

• 带红外加热的NMP滴胶

• 刷洗

• 兆声双氧水清洗

• 热氮和甩干

CMP溶液清洗:

• 用刷洗和兆声清洗去除CMP颗粒

• 化学喷射臂

• 化学喷射罐

• 为前面和背面刷洗设计的特殊托盘

• 可调速的PVA清洗刷

• 可调的清洗刷/晶圆接触压力

• 刷式化学喷射

带膜/不带膜式掩膜清洗:

• 全套清洗(无需更换保护膜)

• 全保护膜

• 膜式掩膜清洗工艺

 1)  掩膜背面清洗后

 兆声双氧水清洗
 刷式清洗
 化学清洗
 热氮甩干
 2)热氮甩干

SWC系列清洗系统

可选型号:

RITAI-3000

标准台式

兆声清洗,N2旋干

 

 

 

 

RT-3000-C

CDU台式

兆声清洗,N2旋干,带化学试剂分配功能

RT-3000-M

掩膜板台式

兆声清洗(3MHz),N2旋干或者红外灯烘干

RT-4000

标准立式

兆声清洗,热N2旋干化学配比,酸和溶剂分别独立排放

RT-4000-M

独立的掩膜板清洗机

兆声清洗,热N2旋干

化学配比,酸和溶剂分别独立排放

RT-4000-MP

薄膜光刻度板清洗机

兆声清洗,热N2旋干

化学配比,酸和溶剂分别独立排放

技术指标:
zui大晶园尺寸:12英寸
zui大掩膜板尺寸:6×6英寸
典型清洗时间:1分钟
标准巨声波频率:1MHz
射频电源输出功率:60W
zui小DI水流量:1.5L/min
zui大转速:4000RPM
系统控制:PLC程序控制
装载和卸载:手动
氮气烘干温度:zui高300℃

详细描述

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