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产品分类 |
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| 所属类别： |
超声波清洗机 |
| 产品名称： |
兆声波清洗机1000KHZ |
| 产品编号： |
55709 |
| 发布日期： |
2025-03-17 |
| 简要说明： |
产品详细
1000KHZ,800KHZ,600KHZ,400KHZ,200KHZ, 半导体清洗机，高频超声波清洗机，多频超声波清洗机
表面颗粒的去除可以调整化学试剂的配方成分，使得衬底表面存在zui少量的颗粒。化学配比系统设计了zui小的化学试剂的消耗，它提供了程序化的混合方式使化学试剂在衬底表面完全均匀的分布。这个设计也提供了精确的化学工艺时间的控制，控制超声波去离子水的流量，然后衬底在热氮氛围里旋干。
根据用户的应用需要，某些特定选项将有助于设备去除不想要的颗粒和杂质。
具体应用
清洗功能：
• 晶圆片
• 蓝宝石外延片
• 晶圆框架上的芯片
• 显示面板
• ITO膜显示材料
• 有图形掩膜和无图形掩膜
• 掩膜坯料
• 薄膜式掩膜
• 接触式掩膜
光刻处理工艺：
• SPM剥离
• 光刻胶涂膜
• 光刻胶剥离工艺
刻蚀：
• 金属刻蚀（铝，铜，铬，钛）
白骨化清洗：
• 在晶圆片上注射硫酸和双氧水的混合液
• 红外加热
• 刷洗
• 兆声双氧水清洗
• 热氮和甩干
产品特点：
• 针对21英寸外径或15x15英寸的基底
• 巨声环境清洗舱（可配备去离子水, 清洗刷, 热去离子水, 高压去离子水, 热氮气）
• 化学注射臂
• 带化学喷射的可变速清洗刷
• 触屏用户界面
• 手动上下载
• 安全锁和报警器
• 占地尺寸30”D x 26”W
可选配项：
• 化学试剂传送单元
• 白骨化清洗
• 臭氧发生器
• 氢化双氧水发生器
• 高压双氧单元
• 硫酸氢过氧化物
• 红外加热
• 双氧水循环装置
• 机械手上下载单元
• 带EFEM和SMIF界面的 集群系统
去胶/剥离工艺
• 带红外加热的NMP滴胶
• 刷洗
• 兆声双氧水清洗
• 热氮和甩干
CMP溶液清洗：
• 用刷洗和兆声清洗去除CMP颗粒
• 化学喷射臂
• 化学喷射罐
• 为前面和背面刷洗设计的特殊托盘
• 可调速的PVA清洗刷
• 可调的清洗刷/晶圆接触压力
• 刷式化学喷射
带膜/不带膜式掩膜清洗：
• 全套清洗（无需更换保护膜）
• 全保护膜
• 膜式掩膜清洗工艺
1) 掩膜背面清洗后
兆声双氧水清洗
刷式清洗
化学清洗
热氮甩干
2)热氮甩干
SWC系列清洗系统
可选型号：
RITAI-3000
标准台式
兆声清洗，N2旋干
RT-3000-C
CDU台式
兆声清洗，N2旋干，带化学试剂分配功能
RT-3000-M
掩膜板台式
兆声清洗（3MHz），N2旋干或者红外灯烘干
RT-4000
标准立式
兆声清洗，热N2旋干化学配比，酸和溶剂分别独立排放
RT-4000-M
独立的掩膜板清洗机
兆声清洗，热N2旋干
化学配比，酸和溶剂分别独立排放
RT-4000-MP
薄膜光刻度板清洗机
兆声清洗，热N2旋干
化学配比，酸和溶剂分别独立排放
技术指标：
zui大晶园尺寸：12英寸
zui大掩膜板尺寸：6×6英寸
典型清洗时间：1分钟
标准巨声波频率：1MHz
射频电源输出功率：60W
zui小DI水流量：1.5L/min
zui大转速：4000RPM
系统控制：PLC程序控制
装载和卸载：手动
氮气烘干温度：zui高300℃ |
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| 详细描述 |
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